鎳及鎳合金制件的拋光

   鎳及鎳制件的機(jī)械拋光    

自19世紀(jì)70年代以后，高整平光亮酸性鍍銅和高整平光亮鍍鎳技術(shù)已日臻完善，大部分裝飾性電鍍銅/鉻或鎳鐵/鉻制件已可不用機(jī)械拋光鎳鉻表面，即可達(dá)到各種零部件裝飾性的要求。只有少數(shù)光亮度要求特別高或反射率要求特別高的部件，在鍍光亮鎳后或在鍍鉻后再進(jìn)行適當(dāng)?shù)淖詣訏伖鈾C(jī)的機(jī)械拋光。這種類型的機(jī)械拋光大都采用常規(guī)的機(jī)械拋光設(shè)備進(jìn)行。

隨著電腦的日益普及，鋁基化學(xué)度鉻鎳磁碟的應(yīng)用也越來越普遍。具有高機(jī)械強(qiáng)度、高耐蝕性、同時又無磁性化學(xué)鍍鎳磷（高磷）合金鍍層已被確認(rèn)為高密度磁記錄介質(zhì)層的最佳底鍍層，這已為許多專利所證明?；瘜W(xué)鍍磷合金可以在無外界電流的條件下直接在經(jīng)過預(yù)處理過的鋁碟上施鍍，方法簡單，生產(chǎn)效率高，而且所得的鎳磷鍍層具有很好的結(jié)合力，結(jié)晶細(xì)小，厚度分布十分均勻。鎳磷合金磁碟的機(jī)械拋光由塑料棍、冷卻劑、噴口和拋光帶組成。拋光時控制軸承的內(nèi)壓或外壓，將含磨料粒子的拋光帶壓在被拋光的Ni—P合金磁碟上，同時冷卻劑通過噴口Ni-P鍍層與拋光帶的界面，轉(zhuǎn)動拋光帶即可進(jìn)行自動拋光機(jī)機(jī)械拋光。拋光時也可用不含磨料粒子的拋光帶，磨料與冷卻劑混合后由噴口噴向拋光帶，磨粒與冷卻劑混合后由噴口噴向拋光帶與磁碟件的間隙，磨料粒子（如Al2O3）對冷卻劑的混合比是Al2O3：水=（2～3)g:1000mL。

 自動拋光機(jī)的拋光帶通常用編織聚酯纖維布，厚度100υm,拋光帶可涂上研磨劑粒子和粘合劑的混合物。研磨劑可用金剛石、氧化鋁 、碳化硅、氧化鉻、氧化鐵、氧化鈰或者它們混合物。研磨劑的粒徑通常在2υm～3υm左右，對鋁磁碟最常見的是氧化鋁做磨料粒子。

在美國專利中介紹了一種用冷卻劑與磨料的混合液進(jìn)行機(jī)械拋光化學(xué)鍍鎳磷磁碟的方法。這種混合液含有兩種氧化鋁，，一種是六邊形未經(jīng)未經(jīng)潤滑處理Al2O3，其粒徑為1υm～10υm（通常用3υm～5υm），Al2O3的含量體積分?jǐn)?shù)為1%～5%；另一種Al2O3為膠體狀A(yù)l2O3懸浮液，其濃度為5%～10%（通常是6%～8%），粒徑在10?～1000?，它也可以用涂附了Al2O3的石英粉來代替純的Al2O3。懸浮液的PH為4～6（5～6為佳），它含有少量的表面活性劑。若加入羥丙基纖維素，可提高懸浮液的粘稠度并使PH值升高至7。